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高溫樣品固定裝置應(yīng)用于高溫光氣的氣體濃度檢測(cè)

更新時(shí)間:2024-03-19 點(diǎn)擊次數(shù):938

  高溫樣品固定裝置包括固定圓盤、薄管樣品固定夾具和薄片樣品固定夾具;固定圓盤上設(shè)置有若干豎向螺紋通孔,等間距分布在投影位置四周;薄管樣品固定夾具包括定位螺柱,以及鉑筒對(duì)電極和管狀工作電極,鉑筒對(duì)電極和管狀工作電極呈同心布置;薄片樣品固定夾具包括定位螺柱,以及片狀工作電極和鉑片對(duì)電極,定位螺柱的頂部可拆卸式設(shè)置有定位樣品夾,片狀工作電極和鉑片對(duì)電極可拆卸式安裝在定位樣品夾上,片狀工作電極和鉑片對(duì)電極對(duì)稱分布在定位螺柱兩側(cè)。

  該裝置是一款為研究高溫氣固相催化反應(yīng)過(guò)程而設(shè)計(jì)的原位測(cè)試裝置,采用加熱爐方式對(duì)催化劑進(jìn)行加熱,樣品加熱溫度更加均勻、準(zhǔn)確,原位裝置高度可設(shè)置成500℃,配備進(jìn)出氣孔,能夠?qū)ρb置整體進(jìn)行氣氛保護(hù),同時(shí)受益于氣路設(shè)計(jì),能夠保證氣體始終有效通過(guò)催化劑,采用透射模式進(jìn)行數(shù)據(jù)采集,裝置兩側(cè)均設(shè)置了X射線窗口,更高和更均勻的溫度體系讓用戶能夠在更多的應(yīng)用場(chǎng)景中選擇對(duì)自己合適的反應(yīng)參數(shù)來(lái)進(jìn)行原位觀測(cè),是這一原位裝置的優(yōu)勢(shì)所在。


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       高溫樣品固定裝置ProboStat技術(shù)參數(shù):

  總體設(shè)計(jì):封閉套管一端固定在裝置上,套管外徑為40mm,長(zhǎng)為30-1500px

  樣品:直徑為10-24mm的盤狀樣品,長(zhǎng)為25-50mm棒狀樣品

  電極數(shù)量:2、3或4溫度:典型長(zhǎng)時(shí)間加熱:<1400℃短時(shí)間加熱:<1600℃

  氣體氛圍:氧化、惰性、還原、腐蝕;潮濕或干燥;低真空10-2mbar到1個(gè)大氣壓(封閉的鋼管中為25bar)支持單氣室或雙氣室模式?! ?/p>

  高級(jí)配置(Extensivelyfurnishedversion)

  l不同直徑的盤狀樣品;

  l2-,3-,4-電極設(shè)置;

  l4-點(diǎn)vanderPauw測(cè)量(用于測(cè)量任意形狀樣品的電阻率);

  l棒狀樣品(4-點(diǎn)測(cè)量和Seebeck系數(shù)測(cè)量);

  l電導(dǎo)率、阻抗譜、DC測(cè)量;

  l濃差電池、遷移數(shù)、透過(guò)率、燃料電池測(cè)試等。

  常規(guī)配置(Normalversion)

  l特定直徑(如12或20mm)的盤狀樣品;

  l2-、3-電極設(shè)置;

  l電導(dǎo)率、阻抗譜、DC測(cè)量;

  l濃差電池、遷移數(shù)、透過(guò)率、燃料電池測(cè)試等。

  常規(guī)增強(qiáng)配置(Normalplusversion)

  l包括常規(guī)配置和額外的備用消耗部件;

  l特定直徑(如12或20mm)的盤狀樣品;

  l2-、3-電極設(shè)置;

  l電導(dǎo)率、阻抗譜、DC測(cè)量;

  l濃差電池、遷移數(shù)、透過(guò)率、燃料電池測(cè)試等。


  高溫樣品固定裝置應(yīng)用于高溫光氣的氣體濃度檢測(cè)及濃度超標(biāo)報(bào)警,可以檢測(cè)光氣的濃度并在現(xiàn)場(chǎng)顯示實(shí)時(shí)濃度值、標(biāo)準(zhǔn)信號(hào)輸出,具有信號(hào)穩(wěn)定,靈敏度及精度高等特點(diǎn),隔爆接線方式適用于各種危險(xiǎn)場(chǎng)所,可選有線傳輸、局域網(wǎng)、互聯(lián)網(wǎng)、無(wú)線傳輸;無(wú)線傳輸方式;標(biāo)配紅外遙控器可在危險(xiǎn)場(chǎng)合免開蓋操作,遙控距離15米,簡(jiǎn)單實(shí)用。
  裝置各單位可互相切換,自動(dòng)跟蹤零點(diǎn)防止漂移,多校準(zhǔn),可與計(jì)算機(jī)通訊,在電腦上通過(guò)上位機(jī)進(jìn)行實(shí)時(shí)監(jiān)控現(xiàn)場(chǎng)探頭的濃度并在電腦上存儲(chǔ)和分析、打印數(shù)據(jù)。 

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